High Density RF Plasma System
고밀도 알에프 플라즈마 표면처리장치 입니다.
Sample의 열충격 방지를 위한 Substrate water cooling 이 가능하며
Gas shower head 채택하여 Plasma 처리시 균일도를 높였습니다.
2개의 MFC와 Bypass vacuum line 및 Baratron vacuum sensor를 사용하여 정밀한 공정압력 제어와
Gas 분압 제어가 가능 하도록 하였습니다.
