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High Density RF Plasma Treatment System

조회 수 20358 추천 수 0 2013.04.03 19:13:09
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High Density RF Plasma System

 

고밀도 알에프 플라즈마 표면처리장치 입니다.

Sample의 열충격 방지를 위한 Substrate water cooling 이 가능하며

Gas shower head 채택하여 Plasma 처리시 균일도를 높였습니다.

2개의 MFC와 Bypass vacuum line  및 Baratron vacuum sensor를 사용하여 정밀한 공정압력 제어와

Gas 분압 제어가 가능 하도록 하였습니다.

 

plasma system.jpg

plasma01.JPGplasma02.JPG

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

plasma03.jpg

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

plasma.jpg

plasma04.JPG

 

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